普泰克 CMP研磨液專用Chiller，是一款專為半導(dǎo)體晶圓制造及精密材料加工領(lǐng)域的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝量身打造的專業(yè)級(jí)溫控裝備。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2026-06-15

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：91

服務(wù)熱線

15214387784

立即咨詢

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

半導(dǎo)體高低溫測試機(jī)

氣體回收深冷機(jī)組半導(dǎo)體特種氣體回收可靠性測試?yán)錈嵩垂?yīng) 溫循試驗(yàn)箱熱管理封裝芯片三溫測試?yán)鋮s 晶圓高低溫探針臺(tái)控溫擴(kuò)膜機(jī)熱盤冷卻配套半導(dǎo)體工藝?yán)浒謇鋮s器真空腔體冷板Chiller 水冷gpu測試小型水冷式冷熱一體機(jī) vocs廢氣回收設(shè)備低溫冷循環(huán)機(jī)組半導(dǎo)體冷阱光學(xué)鏡組chiller 熱純水系統(tǒng) Ultra-Pure Water Heater DI water加熱器去離子水高低溫循環(huán)器超純水加熱裝置 DI水專用Chiller 研磨液生產(chǎn)線熱管理 CMP研磨液專用Chiller Slurry供給系統(tǒng)熱管理濕法設(shè)備配套冷卻器高低溫動(dòng)態(tài)控溫系統(tǒng) 溫變測試系統(tǒng) 制冷加熱循環(huán)器恒溫循環(huán)器半導(dǎo)體制冷裝置半導(dǎo)體制冷恒溫系統(tǒng) 半導(dǎo)體晶圓半導(dǎo)體專用溫控裝置半導(dǎo)體晶圓溫度控制半導(dǎo)體溫控設(shè)備chiller 半導(dǎo)體溫控裝置半導(dǎo)體專用控溫設(shè)備半導(dǎo)體恒溫半導(dǎo)體恒溫系統(tǒng) 高低溫循環(huán)器高低溫一體機(jī) 高低溫循環(huán)裝置高低溫一體循環(huán)機(jī) 高低溫冷熱臺(tái)控溫設(shè)備半導(dǎo)體冷水機(jī) 半導(dǎo)體溫控系統(tǒng) 半導(dǎo)體制冷冷水機(jī) 半導(dǎo)體冷卻一體機(jī) 半導(dǎo)體高低溫系統(tǒng) 半導(dǎo)體芯片測試?yán)渌畽C(jī) 半導(dǎo)體冷卻加熱恒溫一體機(jī) 芯片半導(dǎo)體專用冷水機(jī) 恒溫恒流恒壓冷水機(jī) 晶圓測試國產(chǎn)替代溫控系統(tǒng)

查看全部產(chǎn)品

冷熱一體機(jī)：工作原理、核心技術(shù)與應(yīng)用領(lǐng)域全解析

普泰克為您介紹直冷機(jī)的工作原理

TCU溫度控制系統(tǒng)工業(yè)溫控的“智能大腦”

Chiller高精度換熱溫控單元：精密制造中的溫度控制“神經(jīng)中樞”

產(chǎn)品介紹

普泰克 CMP研磨液專用Chiller產(chǎn)品介紹

一、產(chǎn)品概述

普泰克 CMP研磨液（Slurry）專用Chiller，是一款專為半導(dǎo)體晶圓制造及精密材料加工領(lǐng)域的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝量身打造的專業(yè)級(jí)溫控裝備。該設(shè)備聚焦于CMP制程中研磨液對(duì)溫度高度敏感的物理特性，致力于在復(fù)雜的工況下為研磨液提供穩(wěn)定、均勻的恒溫控制。其設(shè)計(jì)充分考量了研磨液易受溫度影響而發(fā)生粘度變化、顆粒沉降或結(jié)晶析出的特性，力求保障晶圓表面的平坦度與拋光良率，是現(xiàn)代化半導(dǎo)體濕法工藝流體供應(yīng)系統(tǒng)的優(yōu)選配套裝備。

二、核心結(jié)構(gòu)與工作原理

該設(shè)備采用高精密與高可靠性的系統(tǒng)化架構(gòu)，主要涵蓋以下核心模塊：

高效換熱與流體循環(huán)模塊：系統(tǒng)配備高性能磁耦合無泄漏循環(huán)泵與精密換熱單元，通過優(yōu)化的流道設(shè)計(jì)，力求實(shí)現(xiàn)熱量在研磨液供給主管路、支管及終端過濾系統(tǒng)中的快速傳遞與均勻分布。針對(duì)Slurry的特殊屬性，接觸物料部分可選用特種防腐材質(zhì)，避免交叉污染與管路堵塞。
高精度傳感與反饋模塊：系統(tǒng)集成高精度溫度傳感器，實(shí)時(shí)采集研磨液供給節(jié)點(diǎn)、回流節(jié)點(diǎn)及關(guān)鍵閥門處的溫度數(shù)據(jù)。結(jié)合優(yōu)良的PID智能算法與自整定功能，系統(tǒng)能夠根據(jù)流體的熱力學(xué)特性自動(dòng)調(diào)節(jié)輸出，力求將整體溫度波動(dòng)控制在極小的范圍內(nèi)。
動(dòng)態(tài)響應(yīng)與補(bǔ)償模塊：針對(duì)CMP工藝在多點(diǎn)取液、啟停泵及流量切換時(shí)帶來的熱負(fù)荷劇烈波動(dòng)，系統(tǒng)具備快速的動(dòng)態(tài)響應(yīng)能力。通過前饋與反饋相結(jié)合的復(fù)合控制策略，力求迅速抵消外部干擾與內(nèi)部熱效應(yīng)帶來的溫度偏差，維持工藝溫度的平穩(wěn)。
全密閉設(shè)計(jì)與安全防護(hù)平臺(tái)：采用全密閉循環(huán)回路設(shè)計(jì)，膨脹罐溫度始終保持在較低溫度，力求避免高溫油霧揮發(fā)及低溫吸收空氣水分的問題。配備直觀的人機(jī)交互界面，內(nèi)置多重軟硬件安全機(jī)制（如超溫報(bào)警、泵故障保護(hù)等）。

三、核心技術(shù)優(yōu)勢

控溫精度與穩(wěn)定性：依托普泰克成熟的高精度溫控方案，系統(tǒng)力求實(shí)現(xiàn)±0.5℃甚至更高精度的溫度控制，有效減少因溫度波動(dòng)導(dǎo)致的研磨速率變化或表面缺陷，提升晶圓加工的良率。
優(yōu)異的均溫性與動(dòng)態(tài)響應(yīng)：優(yōu)化的流體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì)與快速響應(yīng)的控制算法相結(jié)合，力求消除長距離供給管線中的局部熱點(diǎn)或冷點(diǎn)，保障CMP研磨液在整個(gè)供給循環(huán)過程中的均勻性與批次重現(xiàn)性。
潔凈與防污染設(shè)計(jì)：從材質(zhì)選型到密封結(jié)構(gòu)充分考慮了半導(dǎo)體級(jí)化學(xué)品的高潔凈度要求，力求杜絕金屬離子析出與微粒污染，符合電子級(jí)化學(xué)品的生產(chǎn)規(guī)范。
靈活的工藝適配能力：系統(tǒng)支持多種通訊協(xié)議與接口，易于與現(xiàn)有的DCS或PLC系統(tǒng)集成。同時(shí)，其寬廣的溫控范圍與靈活的參數(shù)設(shè)置，力求適應(yīng)不同種類CMP研磨液的多樣化工藝需求。